Аддитивная имплантация ионов в переходные металлы, полупроводники, диэлектрики тонкопленочных структур

Авторы: Перинский В.В., Перинская И.В.

Издательство: Ай Пи Ар Медиа

Цель монографии — дать современное представление о научном направлении, называемом аддитивной ионной имплантацией тонкопленочных структур металлов (медь, титан, алюминий, хром), полупроводников (арсенид галлия, антимонид галлия), диэлектриков (двуокись кремния, гидроксиапатит, полимеры), и описать разнообразие существующих и возможных технических применений в различных отраслях промышленности: электронике, машиностроении, медицинской технике. В издании приведено большое количество экспериментальных данных, в том числе фактических при компьютерном моделировании. Монография будет полезна студентам старших курсов, аспирантам и магистрантам, специализирующимся в области физической электроники, материаловедения ионно-легированных материалов.