Элионная технология в микро- и наноиндустрии. Ускоренные ионы

Авторы: Кузнецов Г.Д., Кушхов А.Р., Сергиенко А.А., Харламов Н.А.

Издательство: Издательский Дом МИСиС

В учебном пособии рассматриваются в основном практические результаты по изменению параметров приповерхностных слоев материалов электронной техники ионным внедрением примесей. Приводятся результаты по особенностям распределения внедренной примеси в аморфных и кристаллических материалах и их теоретическое обоснование. Анализируются результаты по легированию приповерхностных слоев с использованием так называемых атомов отдачи при ионном внедрении. Соответствует программе курса «Элионная технология в микро- и наноиндустрии». Предназначено для магистров, специализирующихся по направлениям «Электроника и наноэлектроника» и «Нанотехнология и микросистемная техника», и может быть полезно обучающимся по направлению «Наноматериалы».