Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра. Учебное пособие
Об издании
Приведены современные требования к геометрической точности изготовления пластин-подложек интегральных микросхем. Рассмотрены кремниевые подложки диаметром 150 и 200 мм, а также сапфировые подложки диаметром 100 мм. Описаны новые технологические операции, применяемые при производстве полупроводниковых пластин. Для студентов специальности «Проектирование и производство электронной аппаратуры» и «Проектирование и технология радиоэлектронных средств», изучающих курс «Микроэлектроника».
Библиографическая запись
Сагателян Г.Р. Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра : учебное пособие / Сагателян Г.Р., Макушина Н.В.. — Москва : Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана, 2006. — 50 c. — ISBN 5-7038-2926-7. — Текст : электронный // Цифровой образовательный ресурс IPR SMART : [сайт]. — URL: https://www.iprbookshop.ru/31257.html (дата обращения: 17.02.2026). — Режим доступа: для авторизир. пользователей
РЕКОМЕНДУЕМ К ПРОЧТЕНИЮ
Линева О.И., Колсанова А.В., Кияшко И.С.
(Ай Пи Ар Медиа)
Дружинина Е.Б., Протопопова Н.В., Дудакова В.Н.
(Ай Пи Ар Медиа)
C ЭТОЙ КНИГОЙ ТАКЖЕ ЧИТАЮТ
Удовкин А.И., Глобин А.Н.
(Ай Пи Ар Медиа)
Голубев С.С., Губин А.М., Романенко Н.Ю., Цивилева А.Е.
(Ай Пи Ар Медиа)
Глобин А.Н., Удовкин А.И.
(Ай Пи Ар Медиа)
Половникова М.В., Байтурина Р.Р.
(Ай Пи Ар Медиа)
Половникова М.В., Байтурина Р.Р.
(Ай Пи Ар Медиа)
Половникова М.В., Байтурина Р.Р.
(Ай Пи Ар Медиа)
Кисова С.В., Гладинов А.Н., Олзоева Э.Б., Коновалова Е.В., Содбоева С.Ч., Цыденов Б.Б.
(Профобразование, Ай Пи Ар Медиа)