Аддитивная имплантация ионов в переходные металлы, полупроводники, диэлектрики тонкопленочных структур. Монография

Цель монографии — дать современное представление о научном направлении, называемом аддитивной ионной имплантацией тонкопленочных структур металлов (медь, титан, алюминий, хром), полупроводников (арсенид галлия, антимонид галлия), диэлектриков (двуокись кремния, гидроксиапатит, полимеры), и описать разнообразие существующих и возможных технических применений в различных отраслях промышленности: электронике, машиностроении, медицинской технике. В издании приведено большое количество экспериментальных данных, в том числе фактических при компьютерном моделировании. Монография будет полезна студентам старших курсов, аспирантам и магистрантам, специализирующимся в области физической электроники, материаловедения ионно-легированных материалов.

Перинский В.В. Аддитивная имплантация ионов в переходные металлы, полупроводники, диэлектрики тонкопленочных структур : монография / Перинский В.В., Перинская И.В.. — Москва : Ай Пи Ар Медиа, 2022. — 159 c. — ISBN 978-5-4497-1414-5. — Текст : электронный // IPR SMART : [сайт]. — URL: https://www.iprbookshop.ru/116611.html (дата обращения: 09.06.2023). — Режим доступа: для авторизир. пользователей. - DOI: https://doi.org/10.23682/116611